、集成電路出產(chǎn)中，純水首要用于清洗硅片，還有少數(shù)用于藥液制造，硅片氧化的水汽源，部分設(shè)備的冷卻水，制造電鍍液等。集成電路出產(chǎn)過程中的80%的工序需求使用高純水清洗硅片，水質(zhì)的好壞與集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及出產(chǎn)成品率聯(lián)系很大。水中的堿金屬(K、Na等)會(huì)使絕緣膜耐壓不良，重金屬(Au、Ag、Cu等)會(huì)使PN結(jié)耐壓下降，Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會(huì)使N型半導(dǎo)體特性惡化，Ⅴ族元素(P、As、Sb等)會(huì)使P型半導(dǎo)體特性惡化，水中細(xì)菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會(huì)使P型硅片上的局部區(qū)域變?yōu)镹型硅而導(dǎo)致器材功能變壞，水中的顆粒(包括細(xì)菌)如吸附在硅片外表，就會(huì)引起電路短路或特性變差。

甘肅反滲透純水處理設(shè)備批量采購供應(yīng)商

跟著工業(yè)化的遍及，純水在電子工業(yè)首要是電子元器材出產(chǎn)中的重要作用日益突出

，純水水質(zhì)已成為影響電子元器材產(chǎn)品質(zhì)量、出產(chǎn)成品率及出產(chǎn)成本的重要因素之一，水質(zhì)要求也越來越高。在電子元器材出產(chǎn)中，高純水首要用作清洗用水及用來制造各種溶液、漿料，不同的電子元器材出產(chǎn)中純水的用處及對(duì)水質(zhì)的要求也不同。在電解電容器出產(chǎn)中，鋁箔及工作件的清洗需用純水，如水中含有氯離子，電容器就會(huì)漏電