赤峰超純水設(shè)備

、變暗、閃動并會造成氣泡、條跡、漏光點(diǎn)等廢次品。因此水的質(zhì)量相當(dāng)重要。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。  

 EDI超純水設(shè)備作為制取超純水的設(shè)備，作為反滲透設(shè)備后的二次除鹽設(shè)備

，可以制取出高達(dá)10-18.2MΩ.CM。因此廣泛用于微電子工業(yè)，半導(dǎo)體工業(yè)，發(fā)電工業(yè)，制藥行業(yè)和實驗室。也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠的鍋爐的補(bǔ)給水，以及其它應(yīng)用超純水。

  EDI超純水設(shè)備將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元,EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開

，形成濃水室,又在單元組兩端設(shè)置陰/陽電極,在直流電的推動下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進(jìn)入到濃水室而在淡水室中去除,而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)。

  EDI超純水設(shè)備技術(shù)介紹：EDI電去離子設(shè)備一般以反滲透（RO）純水作為EDI給水

。RO純水電導(dǎo)率一般是40-2μS/cm（25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)18MΩ.cm(25℃)，但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)工藝、配置不同，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超純水。